Viele Komponenten in der Halbleiter- und Elektronikfertigung sowie in Prüfanlagen erfordern thermisch resistente Materialien. Komponenten in Umgebungen mit hohen Temperaturen müssen hohe mechanische Eigenschaften und Dimensionsstabilität aufweisen und gleichzeitig Ausgasung, Auslaugung und Partikelbildung auf ein Minimum beschränken. Die hochtemperaturbeständigen Kunststoffe von Ensinger können je nach Betriebsbedingungen bei Betriebstemperaturen von bis zu 400°C eingesetzt werden. Hochleistungskunststoffe ersetzen zunehmend Keramik und Quarz in Hochtemperaturanwendungen, da sie ein geringeres Bruchrisiko aufweisen, leichter zu bearbeiten sind und ein besseres Preis-Leistungs-Verhältnis bieten. Bitte wenden Sie sich an uns, wenn Sie Beratung bei der Materialauswahl und weitere Informationen über Lösungen zur Verbesserung der Lebensdauer und der Kosten von Teilen in Halbleiter- und Elektronikfertigungsmaschinen und Prüfgeräten benötigen.
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Langzeit-Hitzebeständigkeit |
Kurzzeit-Hitzebeständigkeit |
PI | 300 °C | 400 °C |
PEEK | 260 °C | 300 °C |
PTFE | 260 °C | 260 °C |
PPS | 230 °C | 260 °C |
PEI | 170 °C | 200 °C |
PVDF | 150 °C | 150°C |
Selbst kleinste Spuren von Fremdmolekülen, insbesondere von Metallen, können den Produktionsprozess stark beeinträchtigen und die Ausbeute schmälern. Insbesondere bei fortgeschrittenen Prozessen mit reduzierten Knotenpunkten ist die Verwendung von hochreinen Materialien für Anlagenkomponenten der Schlüssel zur Minimierung der luftgetragenen molekularen Kontamination (AMC) und der Partikelkontamination durch Materialausgasung, Auslaugen und Partikelabwurf.
Ensingers Lösungen für Halbleitermaterialien basieren auf ausgewählten hochreinen Polymeren, die sich in kritischen Halbleiterfertigungskomponenten mit Waferkontakt bewährt haben. Darüber hinaus erfolgt die gesamte Wertschöpfungskette von der Rohstoffprüfung über die Compoundierung und Formgebung bis hin zur Weiterverarbeitung unter speziellen Bedingungen und Spezifikationen, die darauf ausgelegt sind, das Risiko von Verunreinigungen zu minimieren. Wenden Sie sich an uns, wenn Sie Beratung bei der Materialauswahl und weitere Informationen über Lösungen zum Schutz von Halbleiterproduktionsumgebungen und -prozessen vor AMC- und Partikelkontaminationen benötigen.
[mg/kg] |
TECASINT |
TECAPEEK |
TECATRON |
TECADUR |
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2011 | 4011 | 4111 | CMP | SX | CMP | PET CMP | |
Aluminium (AI) | 1 | < 1 | < 1 | < 1 | < 1 | < 1 | < 1 |
Calzium (Ca) | 1 | < 1 | < 1 | < 10 | < 10 | < 4 | n.t. |
Kupfer (Cu) | < 0.1 | < 0.1 | < 0.1 | < 1 | < 1 | < 1 | n.t. |
Eisen (Fe) | 0.43 | 0.24 | 0.21 | < 4 | < 3 | < 2 | < 1 |
Magnesium (Mg) | < 2 | < 2 | < 2 | < 6 | < 1 | < 1 | < 1 |
Natrium (Na) | < 3 | < 3 | < 3 | n.t. | n.t. | n.t. | n.t. |
Kalium (K) | n.t. | n.t. | n.t. | < 1 | < 1 | < 1 | < 1 |
Zink (Zn) | < 0.3 | < 0.3 | < 0.3 | < 1 | < 1 | < 1 | n.t. |
Prüfung nach ICP-MS, Konzentrationsangaben in ppm; (n.t.= nicht geprüft)
Für die Bearbeitung und Reinigung von Wafern werden verschiedene aggressive Chemikalien verwendet. Daher müssen die Komponenten von Nassprozessanlagen eine angemessene chemische Beständigkeit aufweisen, um die Leistungsfähigkeit der Teile zu gewährleisten, die Lebensdauer der Komponenten zu maximieren und das Risiko von Verunreinigungen zu minimieren. Die Erosion der Bauteiloberfläche kann deren Nettoform zerstören und die Wafer mit Partikeln verunreinigen. Außerdem beeinträchtigt der chemische Abbau die mechanischen Eigenschaften und kann zu kritischen Bauteilausfällen führen.
Ensinger bietet eine breite Palette von Kunststoffen mit hoher chemischer Beständigkeit an, die für fast alle Umgebungen der Waferverarbeitung geeignet sind. Die folgende Tabelle gibt einen allgemeinen Überblick über die Beständigkeit gegen gängige Chemikalien, die in Nassprozessanlagen bei Raumtemperatur und ohne mechanische Belastung verwendet werden. Die chemische Beständigkeit von Kunststoffen hängt stark von der Temperatur und den Betriebsbedingungen ab. Bitte wenden Sie sich an uns, wenn Sie bei der Materialauswahl beraten werden möchten und weitere Informationen über die chemische Beständigkeit und Lösungen zur Verlängerung der Lebensdauer von Teilen in Nassprozessanlagen benötigen.
Chemikalie |
Formel |
Konz. [%] |
PI |
PEI |
PEEK |
PPS |
PVDF |
PTFE |
PET |
POM-C |
Entionisiertes Wasser | H2O | - | + | + | + | + | + | + | + | + |
Fluorwasserstoff | HF | 50 | - | - | + | + | (+) | - | - | |
Schwefelsäure | H2SO4 | 95-97 | - | - | - | + | + | (+) | - | - |
Wasserstoffperoxid | H2O2 | 30 | - | (+) | + | + | + | + | + | (+) |
2-Propanol (Isopropanol, IPA) | CH3CHOHCH3 | 100 | + | + | + | + | + | + | + | + |
Aceton | CH3COCH3 | 100 | + | (+) | + | + | - | + | (+) | + |
Ethanol | (CH3)OCH3 | 95 | + | + | + | + | + | + | + | + |
Salzsäure | HCI | 37 | - | + | + | + | + | + | - | - |
Ammoniaklösung | NH3 | 25 | - | (+) | + | + | + | + | ||
Orthophosphorsäure | H3PO4 | 85 | - | + | + | + | + | - | - | |
Salpetersäure | HNO3 | 69 | (+) | + | + | - | - | |||
Essigsäure | CH3COOH | 100 | (+) | - | (+) | + | + | - | - |
Kommentar: + = beständig, (+) = bedingt beständig, - =nicht beständig
Viele Komponenten in der Halbleiter- und Elektronikfertigung erfordern feine Strukturen mit engen Design- und Bearbeitungstoleranzen. Durch die Optimierung des Herstellungsprozesses sorgen die Halbleiterwerkstoffe von Ensinger für niedrige Eigenspannungen und ermöglichen eine hervorragende Dimensionsstabilität während der Bearbeitung und im Betrieb. Darüber hinaus basieren unsere Halbleiterwerkstoffe auf ausgewählten Polymeren, die ein hohes Maß an Dimensionsstabilität in Bezug auf Wärmeausdehnung, Wasseraufnahme und mechanische Stabilität bieten.
Einige der High-End-Anwendungen wie IC-Testsockel und elektronische Prüfvorrichtungen erfordern zerspante Teile mit Mikrobohrungen, die in einigen Fällen kleiner als 0,1 mm sind. Da derartige Anwendungen spezielle Materialeigenschaftsprofile voraussetzen, hat Ensinger ein spezielles Portfolio mit verbesserter Mikrozerspanbarkeit und Maßhaltigkeit entwickelt. Kontaktieren Sie uns für eine Beratung bei der Materialauswahl und weitere Informationen über Materiallösungen zur Verbesserung der Genauigkeit und Stabilität von Teilen.