In bestimmten Industriebereichen wie der Halbleitertechnik, der Wasserstofftechnologie und der Elektromobilität gelten strenge Anforderungen an die Reinheit der Werkstoffe, dabei spielt die ionische Reinheit eine wesentliche Rolle. In bestimmten Umgebungen führen Materialien durch Ionenauslaugung zu Systemverunreinigungen und dadurch zu Störungen.
Viele Hochleistungskunststoffe von Ensinger haben einen geringen Gehalt an auslaugbaren und extrahierbaren Stoffen und erfüllen dadurch die strengen Anforderungen. In den folgenden Tabellen finden Sie Details zur Ionischen Reinheit unserer Hochleistungskunststoffe, die der Kategorie „hohe Reinheit“ zugeordnet werden.
[mg/kg] |
TECASINT |
TECAPEEK |
TECATRON |
TECADUR |
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| 2011 | 4011 | 4111 | CMP | SX | CMP | PET CMP | |
| Aluminium (AI) | 1 | < 1 | < 1 | < 1 | < 1 | < 1 | < 1 |
| Calzium (Ca) | 1 | < 1 | < 1 | < 10 | < 10 | < 4 | n.t. |
| Kupfer (Cu) | < 0.1 | < 0.1 | < 0.1 | < 1 | < 1 | < 1 | n.t. |
| Eisen (Fe) | 0.43 | 0.24 | 0.21 | < 4 | < 3 | < 2 | < 1 |
| Magnesium (Mg) | < 2 | < 2 | < 2 | < 6 | < 1 | < 1 | < 1 |
| Natrium (Na) | < 3 | < 3 | < 3 | n.t. | n.t. | n.t. | n.t. |
| Kalium (K) | n.t. | n.t. | n.t. | < 1 | < 1 | < 1 | < 1 |
| Zink (Zn) | < 0.3 | < 0.3 | < 0.3 | < 1 | < 1 | < 1 | n.t. |
Prüfung nach ICP-MS, Konzentrationsangaben in ppm; (n.t.= nicht geprüft)
Zusätzlich zu unseren Produkten bieten wir eine umfassende Auswahl an Verarbeitungsverfahren sowie kundenspezifische Profile und Rohre, um Ihre individuellen Anforderungen an Ihr Fertigteil zu erfüllen.
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