Nassbank Waferhalterung
Festigkeit, chemische Beständigkeit und Copy Exactly-Konformität für Wafer Mobilitätsteile
PEEK ermöglicht höchste Genauigkeit bei der Waferpositionierung
In dieser Fallstudie wurde das Halbzeug TECAPEEK SX, ein ungefülltes PEEK in Halbleiterqualität, für eine Nassbank Waferhalterung ausgewählt. Die Funktion der Waferhalterung besteht darin, mehrere Wafer in verschiedene chemische Prozessbäder zu tauchen. Die PEEK Teile fixieren die Wafer an den Seiten, damit die flüssigen Chemikalien beim Eintauchen in das Bad ungehindert an die Wafer gelangen können. Die Anzahl der gehaltenen Wafer wird maximiert, um einen besseren Wafer Durchsatz zu erzielen, während gleichzeitig ein ausreichender und gleichmäßiger Abstand zwischen den Wafern eingehalten wird, damit die Flüssigkeiten hindurchfließen können. Das Material muss sehr formstabil sein, um die engen Toleranzen der Schlitzabstände und damit die Genauigkeit der Waferposition zu gewährleisten. Darüber hinaus muss das Material ein hohes Maß an Festigkeit und Steifigkeit sowie Verschleißfestigkeit bieten, um die Maßgenauigkeit zu erhalten und die Lebensdauer der Teile bei hoher Waferbelastung und hunderttausenden von Reinigungszyklen zu maximieren. PEEK erfüllt die Anforderungen an die Dimensionsstabilität über einen längeren Zeitraum hinweg aufgrund seiner hohen Steifigkeit und Kriechfestigkeit sowie seiner geringen Wasseraufnahme. PEEK bietet eine exzellente Kombination von hohen mechanischen Beständigkeit
Wenn Sie hier zoomen und drehen, können Sie den Nassbank-Waferhalter, hergestellt von Ensinger aus TECAPEEK SX, genauer betrachten:
TECAPEEK SX natural - die perfekte Kombination
Chemische Beständigkeit bei Raumtemperatur
Chemikalie |
Formel |
Konzentration [%] |
PI |
PEEK |
PPS |
PEI |
PVDF |
PTFE |
PET |
POM-C |
Deionized water | H2O | - | + | + | + | + | + | + | + | + |
Hydrofluoric | HF | 50 | - | + | - | + | (+) | - | - | |
Sulfuric acid | H2SO4 | 95-97 | - | - | + | - | + | (+) | - | - |
Hydrogen peroxide | H2O2 | 30 | - | + | + | (+) | + | + | + | (+) |
2-propanol (isopropanol, IPA) | CH3CHOHCH3 | 100 | + | + | + | + | + | + | + | + |
Acetone | CH3COCH3 | 100 | + | + | + | (+) | - | + | (+)C | + |
Ethanol | (CH3)OCH3 | 95 | + | + | + | + | + | + | + | + |
Hydrochloric acid | HCI | 37 | - | + | + | + | + | + | - | - |
Ammonia solution | NH3 | 25 | - | (+) | + | + | + | + | ||
Orthophosphoric acid | H3PO4 | 85 | + | + | - | + | + | - | - | |
Nitric acid | HNO3 | 69 | (+) | + | + | - | - | |||
Acetic acid | CH3COOH | 100 | (+) | (+) | + | - | + | - | - |
Comment: + = good, (+) = limited; - = unstable